什么是PVD镀金工艺？

1.较先来讲下PVD的介绍 ：PVD是英语Physical Vapor Deposition（物理学气相色谱沉积）的简称，就是指在真空泵标准下，选用低压、大电流量的电弧放电技术，运用汽体充放电使靶材挥发并使被蒸发化学物质与汽体都产生水解，运用静电场的加快功效，使被挥发化学物质以及反映物质沉积在产品工件上。

2. PVD技术的发展趋势

PVD技术发生于二十世纪七十年代末，制取的薄膜具备高韧性、低摩擦阻力、非常好的耐腐蚀性和**化学可靠性等优势。较开始在弹簧钢数控刀片行业的顺利运用造成了世界各地加工制造业的十分重视，大家在开发设计性能**、可靠性高涂层机器设备的与此同时，也在硬质合金刀具、瓷器类数控刀片中开展了更为深层次的涂层应用研究。与CVD加工工艺对比，PVD处理工艺温度低，在600℃以内时对刀具材料的抗拉强度无危害；薄膜内部内应力情况为压内应力，更适合对硬质合金刀具高精密繁杂数控刀片的涂层；PVD加工工艺对自然环境无不好危害，合乎当代绿色环保的发展前景。现阶段PVD涂层技术已广泛运用于硬质合金刀具合金铣刀、麻花钻、阶梯钻、进油口钻、绞刀、丝锥、可属七和弦铣刀片、异型数控刀片、电焊焊接数控刀片等的涂层解决。

PVD技术不但提升了薄膜与数控刀片基材原材料的融合抗压强度，涂层成份也由**代的TiN发展趋势为TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元化复合型涂层。

3. 星弧涂层的PVD技术

加强型磁控负极弧：阴极弧技术是在真空泵标准下，根据低压和高电流量将靶材离化为离子情况，进而进行薄膜原材料的沉积。加强型磁控负极弧运用磁场的相同功效，将靶材表层的电孤进行合理地操纵，使原材料的离化率更高一些，薄膜特性更为出色。

过虑负极弧：过虑负极电孤(FCA )装有高效率的磁感应过滤装置，可将离子源造成的等离子体里的宏观经济颗粒、离子团过虑整洁，通过磁过滤后沉积颗粒的离化率为**，而且可以过虑掉大颗粒物， 因而制取的薄膜十分高密度和整平光洁，具备耐腐蚀特性好，与人体的结合性很强。

磁控溅射：在真空下，根据工作电压和电磁场的相同功效，以被离化的稀有气体离子对靶材开展负电子，导致靶材以离子、分子或大分子的方式被弹出来并沉积在基件上产生薄膜。依据应用的水解开关电源的不一样，电导体和导电介质原材料均可做为靶材被磁控溅射。

离子束DLC：碳汽体在离子源中被离化为等离子体，在磁场的相同功效下，离子源释放出来碳离子。离子束动能根据调节加进等离子体上的工作电压来操纵。碳氢化合物离子束被拉到硅片上，沉积效率与离子电流强度正相关。星弧涂层的离子束源选用高电压，因此离子动能更高，促使薄膜与硅片结合性非常好；离子电流量更高，促使DLC膜的沉积速率更快。离子束技术的关键优势取决于可沉积纤薄及双层构造，加工工艺线性度可达好多个埃，并可将加工工艺全过程中的颗料环境污染所提供的缺点降至较少。

真空镀钛高新科技的优点有又有哪些了。

真空泵镀膜是在真空里将钛、金、高纯石墨、紫水晶等金属材料或非金属材料、汽体等原材料运用磁控溅射、挥发或离子镀等技术， 在板材上产生薄膜的一种表层处理方式。与传统式**化学镀膜方式对比，真空泵镀膜有很多优势：如对自然环境无污 染，是低碳环保加工工艺；对作业者无损害；膜层坚固、高密度性好、抗腐蚀强，膜厚匀称。

真空泵镀膜技术中常常应用的方式 具体有：挥发镀膜（包含电孤挥发、射线管挥发、电阻丝蒸发等技术）、磁控溅射镀膜（包 括直流电磁控溅射、高频磁控溅射、射频溅射等技术），这种方式通称物理学气相色谱沉积（Physical Vapor Deposition）， 通称为PVD。与之相对的**化学气相色谱沉积（Chemical Vapor Deposition）通称为CVD技术。领域内通常常说的“IP”（ion plating）离子镀膜，是由于在PVD技术中各种各样汽体离子和金属材料离子参加涂膜全过程并具有关键功效，为了更好地注重离子的作 用，而通称为离子镀膜。